人气最旺的IC交易网
技术资料
买卖IC网 - 电子技术资料、开发技术
首页
IC现货
IC急购
产品供应
产品求购
生意社区
我的买卖
搜索:
IC现货
产品供求
IC现货
IC求购
热卖IC
公司信息
↑搜索排行榜
刷新IC
上传IC
客服电话:
010-87982920
首页
>
技术资料
(共有
58455
条
技术资料)
单片机
嵌入式系统
DSP
EDA/PLD
芯片技术
RF/高频技术
电源技术
通信与网络
智能卡技术
集成电路
基础知识
存储/缓存技术
系统管理器件
数据转换/信号处理
传感器技术
开关技术
显示/光电技术
滤波器
电测仪表
工控技术
PCB技术
接口/总线/驱动
分立元器件
其它
氧化及热处理
SiO2的制备方法
CVD
PVD
铜制程技术
化学机械研抛光技术(CMP)
钝化工艺
IC生产线模式
标准工艺加工线 (Foundry)
标准加工线用户
版图设计过程:由底向上过程
最小面积晶体管
集成npn管的版图设计
MOSFET的结构及基本工作原理
MOS晶的阈值电压VT
MOS晶体管的跨导gm
MOS晶体管的衬底偏置效应
CMOS反相器传输特性与工作区划分
n-Si和p-Si体内迁移率
静态内部倒相器的设计
按比例缩小理论
TTL和LSTTL版图举例
The Test Flow of IC Development
IC Testing Items
面向未来的IC设计方法
规则设计(Regularity)
硬件描述语言
设计方法学
Verilog HDL 简介
Verilog HDL发展历史
Verilog HDL 语言概述
Verilog HDL 的书写格式
Verilog HDL 按位逻辑运算符
Verilog HDL 条件运算符
The silicon direct bonding (SDB)
硅片键合技术的分类
金-硅共熔键合
玻璃静电键合
硅-硅直接键合技术的特点和发展
亲水键合的工艺过程
疏水硅-硅直接键合
Si-Ge共熔键合
硅-硅直接键合单项工艺的发展
SOI的发展和特点
键合SOI
智能剥离技术(Smart-cut)
硅-硅直接键合技术在MEMS上的进展
mems表面牺牲层
什么是IP产业
IP产业目的和意义
上一页
1
...
172
173
174
175
176
177
178
179
180
...
下一页
会员服务
广告服务
服务协议
免责条款
欢迎合作
关于我们
买卖网成长计划
买卖网电子技术资料、开发技术
由北京辉创互动信息技术有限公司独家运营
粤ICP备14064281号
客服群:4031849
交流群:4031839
商务合作: